PUBLIC · 教育型研究

光罩

★ ALLIED
2338
資料日期:2026-08-11 · 6/6 軸已解析
1.4
SNOWFLAKE · 六軸研究評分
複合評分覽表
評分基準日 2026-08-11
Axis 1 · 宏觀與產業
20
Axis 2 · 估值與週期
48
Axis 3 · 護城河與品質
20
Axis 4 · 成長與動能
32
Axis 5 · 風險控制
48
RESEARCH REPORT · 公開研究報告

研究報告

護城河敘事

光罩維持 7 / none,是 photomask 新 key 的代表樣本。光罩具半導體製程必要性與客戶驗證門檻,但公司目前毛利率仍略低於 20% photomask 基準,營益率也不足以支撐窄護城河;本次只把分類與 baseline 誠實對齊,不因半導體關鍵材料定位而灌分。

風險因素

  • 毛利率仍略低於 photomask 基準
  • 成熟製程光罩競爭與價格壓力仍在
  • 營益率不足以支撐 narrow

同業比較

目前暫無可公開之研究條目。

催化劑觀察

  • 先進封裝與特殊製程光罩需求
  • 產品組合升級
  • 毛利率回到並穩定高於 20% 基準
SNAPSHOT ARCHIVE · 分數歷史

分數歷史

依每次成功匯入的快照日期排列;分數以 0–100 顯示,並保留模型版本與 calculation run id。

日期A1A2A3A4A5複合模型Run
2026-07-08 20 48 20 68 48 37 schema-1.2 2026-07-08T15:30:55.000Z
2026-07-09 0 32 20 68 48 30 schema-1.2 2026-07-09T11:00:00.000Z
2026-07-17 0 32 20 60 48 28 schema-1.2 2026-07-17T13:29:09.000Z
2026-07-18 0 32 20 60 48 28 schema-1.2 2026-07-18T05:28:13.000Z
2026-07-20 20 32 20 60 48 31 schema-1.2 2026-07-20T11:00:01.000Z
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2026-08-11 20 48 20 32 48 28 schema-1.2 2026-08-11T11:00:01.000Z
★ Supply Chain Axis 6 · 供應鏈戰略定位
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DATA & TOOLS · 資料與工具

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